バッチ生産や連続生産において、信頼性の高いプロセス制御を実現するには、プロセスの状況を迅速かつ正確に把握することが不可欠です。特に粒度分布測定で最も重要なことは、生産ライン中の母集団から、代表性のある標本 (すなわち測定試料) をサンプリングすることです。母集団を代表する試料を得ることで、信頼性の高いプロセス制御が実現できます。
粒度分布を適切に評価するためには、総合的な測定再現性が標準偏差1%未満であることが望ましいです。しかし、特に多分散やマルチモーダルの粉体をサンプリングする場合には、大きな誤差 (サンプリングエラー) が生じやすいです。しかし、一度生じたサンプリングエラーは、その後の測定の一連の過程で改善されることはありません。そのため、分散や測定をいかに正しく行っても、最初のサンプリングが不適切なら、総合的な測定精度はサンプリングエラーがボトルネックになってしまいます。したがって、プロセスから代表性のあるサンプリングを行うことが、粒度分布のプロセス計測には不可欠です。
いかなるプロセスでの代表的なサンプリングができるように、Sympatec社では様々なサンプラーをラインアップしています。プロセス中にサンプリング工程を組み込むことで、定期的もしくは連続的なプロセス計測が可能になり、正確なプロセス監視と迅速なプロセス制御が実現できます。これらのサンプラーと、レーザー回折式および動的画像解析式と組み合わせることで、低メンテナンスかつ高信頼性の測定システムが構築できます。経験豊富なエンジニアリングチームが、お客様の製品やプロセスに最適なサンプラーを提案いたします。
