ラボにおける粒度分布測定
製品開発、品質管理、プロセス監視する上で、粒子特性の測定は不可欠な業務です。サンプルの粒子径や粒子形状の分布特性は、最終製品の特性、製品の品質、加工性、操作性、保管性などに影響するため、粒子計測は製品の製造において極めて重要です。サンプルに対して最適な測定システムで測定することで、信頼性の高い測定結果が得られます。Sympatec社の測定装置は、レーザー回折法、動的画像解析法、超音波減衰法、動的光散乱法などの技術に基づいて、粒子と粒子径や粒子形状を精確に測定します。測定結果は、分布図や表、または個々の特性値として明確に出力され、品質やプロセス制御に必要な情報を迅速に提供します。
ラボオートメーションにおける粒度分布測定
製造プロセス中に監視が必要な箇所が複数ある場合は、ラボオートメーションによる測定が最適です。プロセスからのサンプリングシステムやサンプル輸送システムなどを、測定システムと組み合わせ、それらを自動化することで、生産ライン全体を効率的に管理できます。当社の測定システムは柔軟なインターフェースを備えており、任意の輸送システムやロボットなどと自在に組み合わせて、理想的なオートメーションを実現できます。
ラボ向けの典型的なアプリケーションは、乾燥粉末、顆粒、繊維、懸濁液、エマルション、ゲル、スプレー、吸入剤などで、粒子径は0.5nm~34000µmに対応します。ユニットごとのモジュール式のため、特定のアプリケーションに柔軟に適合できます。すべての装置は、短時間で正確かつ再現性のある測定結果を提供します。
一般的な装置構成
HELOS/BR + RODOS + VIBRI/L
HELOS/BR + RODOS/L + VIBRI/L at-line
HELOS/BR + RODOS/L + ASPRIOS
HELOS/BR + RODOS/L + VIBRI/L
HELOS/BR + QUIXEL
HELOS/BR + QUIXEL + MULTISAMPLER/wet
HELOS/BR + QUIXEL + LIQIBACK
HELOS/BR + SUCELL
HELOS/BR + CUVETTE/50
HELOS/BR + CUVETTE/6
HELOS/BR + OASIS/L + VIBRI/L
HELOS/BR + SPRAYER
HELOS/BR + SPRAYER + ROTOR
HELOS/BR + INHALER
HELOS/KR + RODOS + VIBRI/L
HELOS/KR + RODOS + VIBRI/R
HELOS/KR + RODOS/L + VIBRI/L
HELOS/KR + RODOS/L + VIBRI/R
HELOS/KR + GRADIS/L + VIBRI/L
HELOS/KR + QUIXEL
HELOS/KR + QUIXEL + LIQIBACK
HELOS/KR + SUCELL
HELOS/KR + CUVETTE/50
HELOS/KR + OASIS/L + VIBRI/L
HELOS/KR-Vario
Instrument Finder(アプリケーションや要件に応じて最適な装置をご提案します)
一般的な装置構成
一般的な装置構成
一般的な装置構成
NIMBUS
OPUS-FT off-line
Instrument Finder(アプリケーションや要件に応じて最適な装置をご提案します)
NANOPHOXは、交差相関法(PCCS)により、0.5nmから10,000nmまでの高濃度の懸濁液やエマルション中のナノ粒子径分析を可能にします。さらに、懸濁液やエマルションの凝集、集合化、安定性などを分析することもできます。代表的な用途としては、医薬品原料、顔料、ナノマテリアル全般の研究などが挙げられます。