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粒度分布測定のための、卓越した技術力

粉粒体の特性を正しく評価するためには、粒度分布の精確な測定が不可欠です。粒度分布測定装置の専業メーカーとして、Sympatec社は最先端の技術を駆使し、革新的かつ高信頼性の測定装置を開発しています。あらゆる試料や用途に対応するために、レーザー回折法動的画像解析法超音波減衰法動的光散乱法に基づいた測定装置をラインアップしています。これらを活用することで、1nm未満から 30mm以上の広範な粒子径(Sympatec英語サイトへ)をカバーするだけでなく、ある範囲では粒子形状(Sympatec英語サイトへ)をも測定可能です。Sympatec社の測定装置の用途は、オフラインの実験室向けだけに留まりません。それを自動化したラボオートメーション(アットライン)や、プロセス中(インライン/オンライン)でのリアルタイム測定など、様々な自動化技術も展開しています。

go to dynamic image analysis go to laser diffraction go to ultrasonic extinction go to dynamic light scattering

各測定技術の物理的測定原理は、機器の設計に決定的な影響をもたらします。製品に応じたアプリケーションごとに、調整が容易なモジュラー型アーキテクチャが組み込まれているため、調査対象をシステムに適合させるための複雑な準備を行う必要はありません。私たちの目的は、一次粒子の状態を測定することです。これは、レーザー回折式HELOSおよび動的画像解析式QICPIC用の様々な分散機フィーダーのオプション等を使用することによって実現されます。測定部は測定機の中核です。その光学系は、交換可能なレンズ(オプション)、分散機、およびフィーダーの構成概念を定義します。すべてのシステムコンポーネントと周辺機器(Sympatec英語サイトへ)を管理するソフトウェアも、中央システムアーキテクチャの一部です。ソフトウェアは、使用されているすべての測定技術で共通のプラットフォームです。

レーザー回折、動的画像解析、動的光散乱はすべて、信頼性の高い測定結果を実現するために、光学的に透明な粒子濃度を必要とする光学的方法です。音響法である超音波減衰は、光学的に不透明な懸濁液や乳剤を、希釈する手間をかけずに元の状態で測定可能にします。すべての測定技術は同じ基本原理に従って測定します。光または音波は分散した個々の粒子と相互作用し、その相互作用から分散粒子システムの物理的特性に関する情報を提供します。

HELOS | Analyse granulométrique en laboratoire

HELOS|ラボ向け 粒径解析

多くの実績のあるHELOSシリーズは、精度の高い平行光を持ったベーシックなレーザー回折式の装置であり、粉末、顆粒、懸濁液、エマルジョン、スプレー、および粒子径 > 0.1~8,750 µmの様々な分散システムのための強力な粒径解析技術を提供します。 多彩な分散器および投与ユニットにより、幅広い産業・研究アプリケーションへ柔軟に対応できます。

 

MYTOS & Co. | Analyse granulométrique dans un environnement industriel

MYTOS シリーズ | プロセス環境向け 粒径解析

MYTOSは、粒度分布測定装置HELOSと乾式分散機RODOSの確立された測定技術が一つに統合された堅牢な装置です。粒子径0.25~3,500µmの乾燥粉末向けのプロセスで実証されたレーザー回折式システムです。サンプラーTWISTERと組み合わせることで、サンプリングから測定までインライン化を実現します。MYTOSは、TWISTER、MIXER、SCREWSAMPLER、L Probe、または既存のサンプラーのいずれかと組み合わせて、オンラインでの測定も可能です。振動フィーダーVIBRIと組み合わせれば、ラボオートメーションにも対応します。MYTISは、粒子サイズ 0.5~3,500µmの顆粒や壊れやすい粒子の測定に好適です。

QICPIC | Analyse de la taille et de la forme des particules en laboratoire

QICPIC|ラボ向け 粒子径・形状解析

モジュール式画像解析センサー QICPICは、粒子径1~34,000 µmの粒子サイズと形状の両方を分析します。幅広い分散器および投与ユニットにより、粉体、顆粒、繊維、懸濁液、エマルジョンなどに柔軟に対応できます。製薬・化学工業、食品・飲料技術、土壌科学など、産業・研究の様々なアプリケーションで採用されています。

PICTOS & Co. | Analyse de la taille et de la forme des particules dans un environnement industriel

 

PICTOS シリーズ|プロセス環境向け 粒子径・形状解析

プロセス関連の粒子径・形状の特性評価は、粒子径1~10,000µmをカバーする統合型画像解析センサー PICTOS, PICTIS、PICCELLで実現できます。PICTOSは、QICPICの動的画像解析部とRODOSの乾式分散技術を、オンラインアプリケーション用に特別に開発された堅牢なボディに統合しています。PICTISは、動的画像解析部と自然重力分散装置GRADISとを組み合わせて、生産工程でのアットラインまたはオンラインアプリケーションを可能にします。そして、フロースルーキュベットを備えたPICCELLは、湿式分散を画像解析のオンラインシステムにすることができます。

OPUS | Analyse de la taille et de la concentration des particules dans les environnements industriels

OPUS|プロセス環境向け 粒子径・濃度解析

超音波減衰式粒度分布測定装置OPUSは、粒子径 <1~3,000µmの懸濁液やエマルジョン中の分散相の粒度分布と濃度の両方をリアルタイムで測定します。高温高圧用の安定したプロセスプローブとして設計されており、化学的・機械的ストレスへの耐性があります。防塵および防滴IP65バージョンに加え、ATEXプローブとしても利用できます。適切なプロセスアダプタを選択することで、さまざまなプロセスへ適用できます。一般的な通信プロトコルで、プロセス制御システムとのデータ交換が可能です。

NANOPHOX | Analyse granulométrique et stabilité de nano-suspensions en laboratoire

NANOPHOX | ラボ向け ナノ懸濁液の粒子径・安定性解析

NANOPHOXは、交差相関法(PCCS)を実現し、粒子径0.5~10,000 nmの濁った懸濁液やエマルジョン中のナノ粒子のサイズを、高固形分濃度で分析することができます。さらに、ナノ懸濁液やエマルジョンの凝結、凝集および安定性を分析することができます。典型的な用途には、代表的な用途としては、医薬品原料、顔料、ナノ材料全般の研究などが挙げられます。